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晶片中心技術文件

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技術文件
  國家晶片系統設計中心為協助學術界快速了解本中心所開發之各項設計流程、環境與平台技術,因此將各類之設計環境與平台,逐步建立技術文件,文件內容除說明本中心所提供之相關流程及平台外,同時將彙整相關技術論文與報告,以便師生快速了解與取得所需參考資料,歡迎各位教授及學生多加利用。

        目前本中心已針對現有CMOS MEMS、RFIP及Cell-Based Design Flow等設計環境及平台,整理出四篇技術文件,可供學術界參考與引用,未來將再針對其他流程或平台,陸續整理相關之技術文件。茲因資料收集及網頁建置尚未完成,目前僅開放下列三篇技術文件可透過網頁下載,這四篇技術文件篇名如下所示。

        國家晶片系統設計中心為收集與評估學術界運用本中心技術服務之效益,因此敬請各位教授及同學如使用本中心各項設計流程、研發平台及量測服務,所產出之相關論文應依其所使用之環境或平台,將下列相關之技術文件,加入論文之參考文獻(References)中。這些引用中心技術文件之論文,也將同時加入各位教授在本中心的Paper Credit紀錄中。未來這些技術文件被引用的次數,將成為本中心重要的績效指標之一,敬請各位予以支持,謝謝。
編號 論文名稱 出版日期 版本 論文作者 檔案下載
CIC-CID-RD-08-01 The CIC CMOS MEMS Design Platform for Heterogeneous Integration 2008/04 V.1.0 晶片組 PDF
CIC-CID-RD-08-02 The Re-designable RFIP Methodology Using Full Custom Flow 2008/04 V.1.0 晶片組 PDF
CIC-DSD-RD-08-01 CIC Referenced Flow for Cell-based IC Design 2008/05 V.1.0 設服組 PDF
CIC-DSD-RD-08-02 CIC Referenced Flow for Mixed-signal IC Design 2010/11 V.1.0 設服組 PDF

國家晶片系統設計中心技術文件引用範例如下:

References

[1] The CIC CMOS MEMS Design Platform for Heterogeneous Integration, Technical Report, CIC-CID-RD-08-01, V1.0, National Chip Implementation Center, Hsinchu, Taiwan, April, 2008.
[2] The Re-designable RFIP Methodology Using Full Custom Flow, Technical Report, CIC-CID-RD-08-02, V1.0, National Chip Implementation Center, Hsinchu, Taiwan, April, 2008.
[3] CIC Referenced Flow for Cell-based IC Design, Technical Report, CIC-DSD-RD-08-01, V1.0, National Chip Implementation Center, Hsinchu, Taiwan, May, 2008.
[4] CIC Referenced Flow for Mixed-signal IC Design, Technical Report, CIC-DSD-RD-08-02, National Chip Implementation Center, Hsinchu, Taiwan, 2008.